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表面氧缺陷对光催化活性提高的研究

表面氧缺陷对光催化活性提高的研究

金琅学术出版社 ( 2016-03-17 )

€ 25,80

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本书通过真空脱氧和可控氢化还原两种经济、便捷、易得的方法制备了不同类型的表面缺陷型光催化剂。通过表面氧缺陷结构、数目和种类来调控光催化剂的价带电子态密度分布,降低能带间隙和扩展价带宽度,促进光生电荷的分离和迁移,从而提高其光催化活性。利用理论计算揭示表面缺陷状态对能带结构、价带态密度分布、光吸收性能以及氧化还原势的影响规律。利用多种技术揭示表面缺陷和体相缺陷的物理结构和缺陷性质,揭示缺陷状态与光电流以及光催化降解过程的外在关系以及与光生电荷的分离与迁移的内在规律。揭示表面氧缺陷对光催化剂的光生电荷分离与迁移的促进机理,制备出具有高活性的新型缺陷型光催化剂。加深表面氧缺陷对光催化剂电荷分离与迁移规律的了解,对光催化和物理化学的发展具有促进作用。

Book Details:

ISBN-13:

978-3-639-82361-5

ISBN-10:

3639823613

EAN:

9783639823615

Book language:

中文

By (author) :

艳辉 吕

Number of pages:

144

Published on:

2016-03-17

Category:

Chemistry